Veeco公司(www.veeco.com)日前宣布南通同方半导体有限公司用于硅基氮化镓高亮度二级发光管研究的TurboDisc K465i MOCVD设备已经交付使用。
南通同方已采用Veeco的设备成功生产基于蓝宝石衬底的氮化镓LED，硅基氮化镓LED将成为其未来几年投资重点，并将继续采用Veeco设备。
Veeco高级副总裁Jeff Hawthorne表示，很多客户均在发展硅基氮化镓技术，在不影响最终产品性能的前提下降低LED制造成本，加快固态照明的普及。
K465i的特点是薄膜品质高、瑕疵率低，这是硅基氮化镓加工艺的关键。它还集成了Veeco的Uniform. FlowFlang技术，具有出色的均匀性和优异的重复性。采用TurboDisc技术的设备维修需求低，从而提供最长的连续生产时间、极低微粒子产生的优越性能以及高产量。经过的生设产备验维证修的需K465i提供了易于调试的快速优化工艺，支持最大8英寸的晶圆。
